技术支持
                    你的位置:首页 > 技术支持

                    硅片行业专用超声波清洗技术特性及其原理

                    来源:超声波清洗机??????2018/3/21 15:00:52??????点击:

                    【超声波清洗机http://www.prop-vest.com】在制备半导体材料的进程中,每一个进程都涉及到清洗,而清洗质量直接影响到下一个工序,乃至影响到设备的产量和可靠性。因为ULSI集成的快速提高和降低设备的巨细,更严厉的要求芯片外表污渍,工艺要求提供的ULSI吸附在衬底片不超越500 /平方米* 0.12,小于1010原子金属污染/平方厘米。每个工序的芯片生产,存在潜在的污染,都会导致缺点和设备毛病。因而,硅片的清洗引起了专业人员的留意。许多制造商前洗手办法,这种办法人为因素更重要的是,一方面,简略碎片,经济下滑,另一方面清洗硅片外表清洁度差,污染严峻,使下一个工序,腐蚀进程的合格率较低。因而,硅片清洁技能招引了人们的重视,找到一种简略有用的清洁办法是重中之重。介绍一种超声波清洗技能,其清洗效果显著,是一种硅片清洗技能值得推行。

                    晶圆外表原子对化学键的笔直切开方向被损坏,构成悬空,在自由场的外表邻近构成,特别是在铸铁磨上进行磨削,因而铁离子污染更为严峻。与此同时,因为碳化硅磨料粒度较大,磨削后晶片层受损较大,悬架要害人群,极易吸附的杂质,如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子,如硅粉粉尘,形成磨削后硅——花等现象,运用蓝色,黑色,磨不合格。硅片清洗是消除各种污染物,清扫清洁的目的程度直接决议ULSI的开展更高层次的集成,可靠性、收益率,它涉及高净化环境、水、化学试剂和相应的设备和相关技能,越来越多的困难,显现了半导体职业的清洗进程的重要性。 超声波洗机机苏州全自动超声波清洗设备苏州超声波清洗机

                    <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>